硅化鎳的應用領域

硅化鎳的應用領域

 

鎳硅(NiSi)是奧氏體(NiSi)合金,為用作N型熱電偶的負極端的材料。它在1000度攝氏以上的熱電穩定性好，并比E,J和K型電偶的抗氧化性能好。

鎳硅合金不能放在含硫的氣體中。最近國際標準把它列為熱偶的一種類型。

鎳硅的各種參數如下：

化學成份： Si:4.3%,Mg:0.1% 余為Ni

密度： 8.585g/cm3

電阻： 0.365 歐mm2/m

電阻溫度系數（20-100度c） 689x10負6次方/k

熱膨脹系數（20-100度c） 17x10負6次方/k

熱導（100度c） 27xwm負1次方K負1次方

熔點： 1420度c

應用領域：

1.在半導體材料中，硅的應用最廣泛，多種金屬硅化物被研究用于半導體器件接觸和互連技術，MoSi2和WSi，NiSi2陸續被引入微電子器件研制中，這些硅基薄膜與硅材料本身匹配性好，在硅件中可用于絕緣，隔離，鈍化，互連，

2.硅化鎳物形成工藝的低硅耗和低形成熱預算,而且具有低電阻率,又不存在線寬效應.所以,NiSi作為納米尺寸器件最有希望的自對準硅化物材料得到廣泛的關注和研究.

3.在石墨烯電極中，硅化鎳可延緩硅電極粉化，開裂的發生，提升電極的導電性。

4.不同溫度和氣氛下NiSi2合金對SiC陶瓷的潤濕和鋪展作用。